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ASML光刻小講堂電子束量測中的透視眼電壓襯度檢測

那這個電壓差異如何變成可以甄別的表面圖像明顯的明暗變化呢？大家應該都知道電子被正電壓吸引，被負電壓排斥。如下圖所示，這兩塊地方因為金屬互連的差異產生了不...

2024-06-23 標簽：電子束光刻技術 ASML 1982 0

光刻各環節對應的不同模型種類

光學模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學成像理論，預先計算出透射相交系數（TCCs），從而描述光刻機的光學成像。光學模型中，經過優化的光源，通過光刻...

2023-12-11 標簽：晶圓光刻機器學習 1527 0

ASML攜全景光刻解決方案亮相進博會

第六屆進博會于近日在上海國家會展中心正式收官，ASML2023進博之旅也圓滿落幕! 今年，ASML繼續以“光刻未來，攜手同行”為主題，攜全景光刻解決方案...

2023-11-11 標簽：半導體晶圓光刻 1061 0

什么是EUV光刻？EUV與DUV光刻的區別

EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續步驟。

2023-10-30 標簽：芯片設計光刻 EUV 2752 0

EUV薄膜容錯成本高成芯片良率的關鍵

近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰。

2023-09-14 標簽：單芯片 cpu芯片光刻機 1179 0

ASML向中國臺灣增資1.4億歐元獲批，從事晶圓測量設備等代工生產

asml計劃投資300億臺幣，在新北市林口宮產業專用園區設立工廠。臺灣經濟部計劃向該項目提供2.85億臺幣（約2900億韓元）的補助金，該工廠將主要把重...

2023-08-30 標簽：晶圓光學 ASML 552 0

樂趣探索不一樣的計算光刻

之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結構。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加...

2023-05-25 標簽：光刻微電路 ASML 855 0

納米壓印，終于走向臺前？

納米壓印技術，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術...

2023-05-19 標簽：晶體管納米光刻機 1613 0

用于碳化硅的Aehr測試系統的技術差距

Advantes和 Teradyne最知名的是自動化測試設備。許多其他事情中，ATE工具取出探針卡，將它們與晶圓上的芯片完美對齊，并與晶圓上的電路進行物...

2023-04-04 標簽：SiC GaN 半導體制造 1275 0

一文解析***工作原理圖

節點的尺寸數值基本上和晶體管的長寬成正比關系，每一個節點基本上是前一個節點的0.7倍。這樣以來，由于0.7X0.7=0.49，所以每一代工藝節點上晶體管...

2023-03-02 標簽：集成電路晶體管光刻機 1.5萬 0

為什么ASML不自己制造芯片？摩爾定律真的失效了嗎

ASML 稱之為超數值孔徑的研發正在進行中，因此更具體的光學器件，尚不清楚它是否會起作用。距生產還有 10 年的時間，但這正是研發已經在進行的地方，如果...

2023-02-06 標簽：摩爾定律芯片制造 ASML 2075 0

1納米芯片代表什么？

據悉，下一代EUV光刻機必須要升級下一代的高NA(數值孔徑)標準，從現在的0.33 NA提升到0.55 NA，更高的NA意味著更分辨率更高，是3nm之后...

2022-11-30 標簽：RAM ASML EUV光刻機 3.5萬 0

看一下EUV光刻的整個過程

EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人...

2022-10-10 標簽：光刻機 EUV ASML 5497 0

芯片制造的光刻支出如何隨著各種節點縮小演變歷程

單片設計每個晶圓有 30 個好的die，而小芯片 MCM 設計每個晶圓有 79 個好的die。假設所有有缺陷的die都必須扔進垃圾桶。如果沒有芯片良率收...

2022-07-22 標簽：cpu 晶圓光刻 1196 0

ASML光刻機的工作原理及關鍵技術解析

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過...

2020-10-09 標簽：光刻機 ASML 1.0萬 0

光刻機市場簡析國產光刻機今年能否進入實際生產環節

中科院去年宣布進軍光刻機，相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導體等領域中國可以實現彎道超車的。

2021-01-20 標簽：光刻機 28nm ASML 6756 0

ASML新一代EUV光刻機性能提升70%_2025年量產

2019-07-13 標簽：ASML EUV光刻機 5336 0

ASML光刻機的工作原理，光刻機制造難度有多大？

2019-05-15 標簽：控制器光刻機 ASML 1.9萬 0

EUV曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野

技術節點的發展推動著半導體曝光技術解像度(Half Pitch)的發展，ArF液浸曝光技術和EUV曝光技術等的解像度(R)和曝光波長(λ)成正比，和光學...

2019-01-17 標簽：半導體 EUV ASML 5192 0

極紫外光帶來的機遇與挑戰

ASML 公司的成功案例表明了多物理場仿真對于計算機芯片行業的重要性，他們的寶貴經驗可能適用于所有制造商。

2018-11-19 標簽：芯片計算機 ASML 7716 0

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