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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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Line Edge Roughness (LER) 線邊緣粗糙度
來源:C Lighting 線邊緣粗糙度(LER) 線邊緣粗糙度(LER)指的是柵極圖案邊緣的隨機變化,即印刷圖案邊緣的粗糙度。當最小特征尺寸減小到幾十...
國產突破!初創企業用塑料碼盤代替精密光柵?破解光柵編碼器光刻工藝"卡脖子"難題
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