的損耗峰變化滯后于波長(zhǎng)較小的損耗峰。【關(guān)鍵詞】：導(dǎo)波與光纖光學(xué);;鍍膜相移長(zhǎng)周期光纖光柵;;傳輸矩陣;;薄膜厚度;;損耗峰【DOI】：CNKI:SUN:GXXB.0.2010-03-008【正文快照
2010-04-24 10:11:32
也是最終用戶體驗(yàn)的直觀指標(biāo)，如何控制多個(gè)膜層的反射和透過(guò)率，如何整機(jī)優(yōu)化，如何控制鍍膜工藝，才能保證整個(gè)眼動(dòng)范圍內(nèi)的均勻性，也是研究的重點(diǎn)。為此谷東科技自主研發(fā)設(shè)計(jì)基于偏振陣列波導(dǎo)技術(shù)的光學(xué)模組，并在
2021-01-09 10:15:43
Dual Beam FIB(雙束聚焦離子束)機(jī)臺(tái)能在使用離子束切割樣品的同時(shí)，用電子束對(duì)樣品斷面(剖面)進(jìn)行觀察，亦可進(jìn)行EDX的成份分析。iST宜特檢測(cè)具備超高分辨率的離子束及電子束的Dual
2018-09-04 16:33:22
真空技術(shù)是結(jié)合機(jī)械、電機(jī)、材料、化工和航太等技術(shù)發(fā)展出來(lái)的產(chǎn)業(yè)，亦是目前我國(guó)與美、日等國(guó)極力推動(dòng)之十大新興產(chǎn)業(yè)之一。真空技術(shù)應(yīng)用范圍日趨廣泛，運(yùn)用對(duì)象包括光電、半導(dǎo)體和LCD產(chǎn)業(yè)等，近年來(lái)尤其在光電、IC和LCD等產(chǎn)業(yè)之制造設(shè)備，更是成長(zhǎng)迅速。EMI濺射鍍膜具有以下特點(diǎn)：
2019-07-25 07:27:32
FIB聚焦離子束電路修改服務(wù)芯片 在開(kāi)發(fā)初期往往都存在著一些缺陷，F(xiàn)IB(Focused Ion Beam, 聚焦離子束) 電路修改服務(wù)，除了可提供了 芯片 設(shè)計(jì)者直接且快速修改 芯片 電路，同時(shí)
2018-08-17 11:03:08
針對(duì)強(qiáng)日光條件和更大范圍操作進(jìn)行了優(yōu)化，這使得它非常適用于室外環(huán)境中的手勢(shì)控制和接近檢測(cè)等應(yīng)用。 獲取包括價(jià)格、供貨、開(kāi)發(fā)工具和數(shù)據(jù)手冊(cè)在內(nèi)的所有Silicon Labs新型Si1133UV指數(shù)和
2018-11-07 10:45:15
片）→阻焊→字符→UV固化→成型→清洗→FQC1→沉錫→離子清洗→FQC2→取樣做離子測(cè)試使用亞綠色油墨依照上面流程制作3塊板，在3塊板中各取2個(gè)樣品進(jìn)行測(cè)試，離子污染度測(cè)試數(shù)據(jù)如下：從以上測(cè)得
2019-01-29 22:48:15
我公司是由在聚焦離子束（掃描離子顯微鏡）應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域有多年經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)骨干創(chuàng)立而成。我們?yōu)榧呻娐吩O(shè)計(jì)和制造工業(yè)，光電子工業(yè)，納米材料研究領(lǐng)域提供一流的分析技術(shù)服務(wù)。我們特別專注于離子束應(yīng)用技術(shù)在
2013-09-03 14:41:55
optiSLang軟件的接口，因此可以應(yīng)用各種高級(jí)優(yōu)化算法。使用VirtualLab Fusion和optiSLang在光學(xué)和光子學(xué)中進(jìn)行創(chuàng)新
2022-09-14 12:00:07
特性進(jìn)行更精確的分析氬離子拋光機(jī)可以實(shí)現(xiàn)平面拋光和截面研磨拋光這兩種形式：半導(dǎo)體芯片氬離子截面切割拋光后效果圖： 聚焦離子束FIB切割+SEM分析聚焦離子束FIB測(cè)試原理：聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)
2024-01-02 17:08:51
卷繞鍍膜的介紹和應(yīng)用 1、介紹卷繞鍍膜是由于大面積柔性金屬聚合物薄膜和紙張鍍膜的需求而應(yīng)運(yùn)而生的。卷繞系統(tǒng)需要提供一個(gè)柔性基片，可以從一根軸上解開(kāi)并纏繞到另外一根軸上，類似于磁帶的工作。利用滑動(dòng)密封
2016-06-17 14:42:10
雙束FIB提供TEM制樣、FIB切割、Pt沉積和三維重構(gòu)聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過(guò)結(jié)合相應(yīng)的氣體沉積裝置，納米操縱儀，各種探測(cè)器及可控的樣品
2017-06-29 14:08:35
金鑒檢測(cè)雙束FIB提供TEM制樣、FIB切割、Pt沉積和三維重構(gòu)的服務(wù)發(fā)布時(shí)間：2017-04-26聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過(guò)結(jié)合相應(yīng)的氣體
2017-06-28 16:40:31
金鑒檢測(cè)雙束FIB提供TEM制樣、FIB切割、Pt沉積和三維重構(gòu)的服務(wù)發(fā)布時(shí)間：2017-04-26聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過(guò)結(jié)合相應(yīng)的氣體
2017-06-28 16:50:34
金鑒檢測(cè)雙束FIB提供TEM制樣、FIB切割、Pt沉積和三維重構(gòu)的服務(wù)聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過(guò)結(jié)合相應(yīng)的氣體沉積裝置，納米操縱儀，各種
2017-06-28 16:45:34
`Plasma FIB(P-FIB)原理與Dual Beam FIB(DB-FIB)相似，差別如下: [td]離子源Xe（氙離子）PlasmaGa+ (鎵離子)蝕刻速率 (Probe current
2018-10-24 11:36:39
P FIB 與DB FIB師出同源，最大差異在離子源與蝕刻效率。DB FIB的離子源Ga+容易附著在樣品表面，P FIB使用Xe可減少樣品Ga污染問(wèn)題。P FIB可大范圍面積快速執(zhí)行，蝕刻速率提升20倍。
2019-08-15 15:57:55
二次電子信號(hào)取得電子像.此功能與SEM（掃描電子顯微鏡）相似,或用強(qiáng)電流離子束對(duì)表面原子進(jìn)行剝離,以完成微、納米級(jí)表面形貌加工.通常是以物理濺射的方式搭配化學(xué)氣體反應(yīng)，有選擇性的剝除金屬,氧化硅層或沉積
2015-04-29 16:20:34
的應(yīng)力影響。宜特任何材料都可以以離子束剖面研磨(CP)進(jìn)行約1mm大范圍剖面的制備，由于不受應(yīng)力影響，因此更適用于樣品表面之材料特性的分析(例如EDS、AES、EBSD等表面分析)，有效樣品處理范圍約
2018-08-28 15:39:44
如何找到專業(yè)做FIB技術(shù)的？ 找納瑞科技（北京）有限公司。納瑞科技（北京）有限公司(Ion Beam Technology Co.，Ltd.)成立于2006年，是國(guó)內(nèi)第一家專業(yè)提供聚焦離子束技術(shù)分析
2013-12-18 15:38:33
薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體(稱為襯 底或基片)表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。離子濺射鍍膜原理：離子濺射鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電，產(chǎn)生正的氣體離子；在
2020-02-05 15:15:16
的方法。離子濺射鍍膜原理：離子濺射鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電，產(chǎn)生正的氣體離子；在陰極（靶）和陽(yáng)極（試樣）間電壓的加速作用下，荷正電的離子轟擊陰極表面，使陰極表面材料原子化；形成的中性原子，從
2020-02-06 13:13:24
進(jìn)行了分析,確定了透鏡的厚度與材料。應(yīng)用光學(xué)設(shè)計(jì)軟件CODEV給出了系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì),設(shè)計(jì)結(jié)果顯示該系統(tǒng)像差得到了很好地校正,成像質(zhì)量達(dá)到衍射極限。最后用Lighttools軟件進(jìn)行三維建模分析,系統(tǒng)準(zhǔn)
2010-05-13 09:04:08
良好的視覺(jué)圖像，我們就常常需要借助于一些特殊的輔助光學(xué)器件。今天，維視圖像帶大家了解一下這些常見(jiàn)的輔助光學(xué)器件。 ?反射鏡：反射鏡可以簡(jiǎn)單方便的改變優(yōu)化光源的光路和角度，從而為光源的安裝提供了更大
2016-02-23 13:37:58
聚焦離子束-掃描電子顯微鏡雙束系統(tǒng) FIB-SEM應(yīng)用
聚焦離子束-掃描電鏡雙束系統(tǒng)主要用于表面二次電子形貌觀察、能譜面掃描、樣品截面觀察、微小樣品標(biāo)記以及TEM超薄片樣品的制備。
1.FIB切片
2023-09-05 11:58:27
進(jìn)行元素組成分析。1.引言 隨著納米科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的聚焦離子束（FIB）技術(shù)利用高強(qiáng)度聚焦
2020-02-05 15:13:29
缺陷清晰明了，給客戶和供應(yīng)商解決爭(zhēng)論焦點(diǎn)，減少?gòu)?fù)測(cè)次數(shù)與支出。 （4）FIB其他領(lǐng)域定點(diǎn)、圖形化切割 3. 誘導(dǎo)沉積材料利用電子束或離子束將金屬有機(jī)氣體化合物分解，從而可在樣品的特定區(qū)域進(jìn)行材料
2020-01-16 22:02:26
清晰地分析器件缺陷，更好地滿足集成電器失效分析對(duì)檢測(cè)工具的解析要求。3. VC定位技術(shù)基于SEM或FIB的一次電子束或離子束，在樣品表面進(jìn)行掃描。硅片表面不現(xiàn)部位有不同電勢(shì)，表現(xiàn)出來(lái)不同的明亮對(duì)比，找出導(dǎo)常亮的點(diǎn)從而定位失效點(diǎn)。`
2020-05-18 14:25:44
失效分析，很多時(shí)候都需要做FIB-SEM測(cè)試，相信各位電子行業(yè)的朋友并不陌生， 大家都知道用聚焦離子束FIB切片芯片，解剖芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu) 查找芯片失效點(diǎn)分析，再做進(jìn)一步分析。今天，邵工給大家分享一下
2021-08-05 12:11:03
上海井仁科技有限公司，是一家集光學(xué)鍍膜設(shè)備耗材經(jīng)營(yíng)、光學(xué)鍍膜機(jī)維修、光學(xué)鍍膜機(jī)移機(jī)等的專業(yè)性服務(wù)公司，本公司擁有行業(yè)內(nèi)的頂尖人才，專門為您解決鍍膜機(jī)的各種故障，提供絕佳解決方案，憑借多年的維修
2014-05-22 18:55:36
濺射薄膜壓力芯體其利用離子束濺射薄膜技術(shù)結(jié)合先進(jìn)的微電子工藝技術(shù)制造而成的不銹鋼彈性膜片。具有準(zhǔn)確度高，工作溫度范圍寬，溫漂小，高穩(wěn)定，高可靠，抗振動(dòng)，抗沖擊，抗輻射的工作特性。在各種惡劣的環(huán)境下能
2022-04-18 16:18:55
采用電弧離子鍍膜方法，以高純石墨為碳離子源在PMMA樹(shù)脂義齒表面沉積類金剛石膜。應(yīng)用xps譜和Raman譜對(duì)膜層的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了理論分析，對(duì)鍍膜樣品進(jìn)行了抗磨性能實(shí)驗(yàn)、病理實(shí)驗(yàn)
2009-04-26 22:20:54
29 本文介紹了離子束濺射鍍膜機(jī)電源的設(shè)計(jì)方案，并著重闡述了短路保護(hù)電路、自動(dòng)恢復(fù)電路和線性光電隔離電路的設(shè)計(jì)。測(cè)試結(jié)果表明：該電源能滿足離子束濺射鍍膜機(jī)設(shè)備的要
2009-10-16 09:41:5931 增強(qiáng)濺射的原理類似于噴射工藝。低壓電弧在真空室中央放電使等離子強(qiáng)度增大幾倍，從而產(chǎn)生強(qiáng)度更高的電離
2009-12-07 16:27:289 本文介紹了一種成功應(yīng)用的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，重點(diǎn)討論了計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)的硬件配置、軟件設(shè)計(jì)、通信協(xié)議、控制過(guò)程實(shí)現(xiàn)以及軟件編程的控制算法。
2009-12-07 16:36:589 本文介紹了一種成功應(yīng)用的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)的設(shè)計(jì),重點(diǎn)討論了計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)的硬件配置、軟件設(shè)計(jì)、通信協(xié)議、控制過(guò)程實(shí)現(xiàn)以及軟件編程的控制算法。
2009-12-07 16:40:0514 , 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體,
2023-05-11 13:42:32
380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶
2023-05-11 14:02:30
離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以
2023-05-11 14:09:08
源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學(xué)元
2023-05-11 14:14:53
75: 緊湊柵極離子源, 離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,
2023-05-11 15:53:50
10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號(hào)的離子源. 適用于集成在小型的真空設(shè)備中, 例如預(yù)清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在
2023-05-11 16:02:30
摘要：磁控濺射技術(shù)在薄膜制備領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，電源是磁控濺射鍍膜的關(guān)鍵設(shè)備之一。本文介紹了全橋逆變直流磁控濺射電源主電路和控制電路的設(shè)計(jì)，該電源輸出功率2kW，采用PI恒
2010-06-27 21:04:5144 新型鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)高性能介質(zhì)膜光學(xué)元件
2010-12-28 17:12:010 實(shí)驗(yàn)．光學(xué)零件的鍍膜
一。實(shí)驗(yàn)?zāi)康?1．掌握鍍膜的基本原理.2．了解真空鍍膜機(jī)的的基本結(jié)構(gòu)。3．了解鍍膜機(jī)操作的過(guò)程
2008-09-22 12:42:09
1789 離子注入是另一種對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜的方法。將雜質(zhì)電離成離子并聚焦成離子束，在電場(chǎng)中加速而獲得極高的動(dòng)能后，注入到硅中（稱為 靶 ）而實(shí)現(xiàn)摻雜。 離子束是一種帶電原子或帶
2011-05-22 12:40:530 離子注入是另一種對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜的方法。將雜質(zhì)電離成離子并聚焦成離子束，在電場(chǎng)中加速而獲得極高的動(dòng)能后，注入到硅中（稱為 靶 ）而實(shí)現(xiàn)摻雜。 離子束的性質(zhì) 離子束是一種
2011-05-22 12:43:520 離子束加工原理和離子束加工的應(yīng)用范圍，離子束加工的特點(diǎn)。
2011-05-22 12:48:4116054 
離子束注入技術(shù)概述 基本原理：離子束射到固體材料以后，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來(lái)，并最終停留在固體材料中，這一現(xiàn)象就叫做離子注入。 用能量為100keV量級(jí)的離子
2011-05-22 13:00:550 離子源用以獲得離子束的裝置。在各類離子源中，用得最多的是等離子體離子源，即用電場(chǎng)將離子從一團(tuán)等離子體中引出來(lái)。這類離子源的主要參數(shù)由等離子體的密度、溫度和引出系統(tǒng)
2011-12-16 11:28:081047 
成都一家本土企業(yè)通過(guò)自主創(chuàng)新，研制出了可以廣泛應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域的基礎(chǔ)熱源———層流電弧等離子束，這種等離子束可以產(chǎn)生穩(wěn)定、可控的熱源，溫度可在15000攝氏度至200攝氏度間調(diào)節(jié)。其在3D打印技術(shù)中也可以得到應(yīng)用.
2013-09-24 15:43:381561 在一張頭發(fā)薄厚、米粒大小的透明塑料薄膜上雕刻出復(fù)雜的電路，對(duì)離子束加工是小菜一碟。北京埃德萬(wàn)斯公司，一家不到百人的小公司，不聲不響地持有這一前景無(wú)限、體現(xiàn)國(guó)家頂級(jí)加工能力的利器。 初冬，中關(guān)村環(huán)保園一間工廠里，幾十臺(tái)離子束刻蝕機(jī)、鍍膜機(jī)正在運(yùn)行。
2016-12-13 01:48:111655 蒸發(fā)鍍膜，是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面，此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動(dòng)能太低，填充密度太低。
2017-12-05 08:59:3035685 為了解決傳統(tǒng)優(yōu)化算法在求解智能電網(wǎng)的實(shí)時(shí)電價(jià)模型過(guò)程中易陷入局部最優(yōu)的不足，引入光學(xué)優(yōu)化算法對(duì)實(shí)時(shí)電價(jià)模型進(jìn)行求解。采用可變適應(yīng)度的方法對(duì)光學(xué)優(yōu)化算法求解模型過(guò)程中的不變適應(yīng)度進(jìn)行改進(jìn)，提出
2018-03-05 11:39:340 近日，中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院等離子體物理研究所在自主發(fā)展聚變工程技術(shù)即研發(fā)射頻負(fù)離子束源方面取得重要進(jìn)展，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定可重復(fù)的百秒量級(jí)強(qiáng)流負(fù)離子束引出。
2020-08-06 15:43:13904 光學(xué)透鏡粘接用UV膠 目前光學(xué)UV膠應(yīng)用點(diǎn)很多，包括透鏡粘接、芯片粘接、外殼粘接等，其中透鏡粘接是很重要的一個(gè)應(yīng)用點(diǎn)。一般在在較大的透鏡系統(tǒng)中，兩個(gè)或更多個(gè)部件使用UV膠粘合在一起。這是因?yàn)閱蝹€(gè)透鏡
2020-09-15 15:40:571288 光學(xué)鏡片膠合用UV固化機(jī) 在光學(xué)鏡片膠合中，一般會(huì)需要用到UV膠，而UV膠又需要UV固化機(jī)進(jìn)行照射固化。在鏡片預(yù)固化的時(shí)候，用UV點(diǎn)光源固化機(jī)來(lái)預(yù)固后在進(jìn)烘箱,這樣就大大的提高的效率，也不易會(huì)讓鏡片
2020-10-15 16:54:141427 光學(xué)鏡頭是用光學(xué)玻璃粘接組合而成，廣泛應(yīng)用于單反相機(jī)等高端攝影設(shè)備以及掃描儀器設(shè)備中。目前光學(xué)鏡頭組件粘接固定一般采用UV膠水，并且光學(xué)鏡頭UV膠水除了需要承受在電子產(chǎn)品常處的潮濕、高溫和強(qiáng)烈撞擊
2020-10-23 16:27:581945 光通訊行業(yè)用膠 AVENTK在UV膠水領(lǐng)域已深耕多年，在攝像模組、新能源、光通訊等行業(yè)都有成熟產(chǎn)品。尤其2020年，AVENTK針對(duì)了光通訊行業(yè)研發(fā)了多款膠水，其中包括lens粘接膠、密封
2020-11-03 10:36:181159 肇慶市大力真空設(shè)備有限公司生產(chǎn)的DJW（L）系列臥式（立式）磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線采用DC電源或中頻電源控制平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)靶或中頻孿生靶在工件上濺射成膜，廣泛應(yīng)用于各種建筑玻璃、ITO透明導(dǎo)電玻璃、家電玻璃、高反射后視鏡及亞克力鍍膜等行業(yè)。
2020-11-25 10:14:482634 電子束加工和離子束加工是近年來(lái)得到較大發(fā)展的新型特種加工。他們?cè)诰芪⒓?xì)加工方面，尤其是在微電子學(xué)領(lǐng)域中得到較多的應(yīng)用。通常來(lái)說(shuō)，電子束加工主要用于打孔、焊接等熱加工和電子束光刻化學(xué)加工，而離子束加工則主要用于離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入等加工。?
2021-03-17 20:10:4815 聚焦離子束技術(shù)（Focused Ion beam，F(xiàn)IB）是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面，實(shí)現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。
2021-04-03 13:51:003143 隨著納米科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。
2021-03-25 16:40:0814084 
隨著科技的不斷進(jìn)步，光通訊行業(yè)對(duì)技術(shù)操作的要求越來(lái)越精密。為了追求更高的生產(chǎn)效率、更好粘接效果，光通訊行業(yè)中很多光器件、光學(xué)透鏡的固定和粘接都離不開(kāi)UV膠，光學(xué)UV膠的地位也越發(fā)重要。
2021-05-13 10:19:001413 離子束用于各種應(yīng)用場(chǎng)合，諸如，質(zhì)譜儀和離子注入機(jī)等。離子 束電流通常非常小（mA）， 所以需要使用靜電計(jì)或皮安表來(lái)進(jìn)行測(cè)量。今天安泰測(cè)試為大家介紹如何使用吉時(shí)利皮安表6485 型和 6487 型皮安表來(lái)進(jìn)行這種測(cè)量工作。在電流靈敏度更高時(shí)，可以改用靜電計(jì)來(lái)進(jìn)行測(cè)量。
2021-09-10 14:04:57581 需求不斷擴(kuò)大的同時(shí)，光學(xué)UV膠水生產(chǎn)廠家所面對(duì)的問(wèn)題和挑戰(zhàn)就越多。去年開(kāi)始，就有客戶陸陸續(xù)續(xù)向AVENTK反映，表示在粘接光學(xué)器件的時(shí)候，遇到比較頭疼的問(wèn)題就是UV膠水固化后體積收縮讓粘接材料的位置
2021-10-12 08:55:362380 一、FIB設(shè)備型號(hào)：Zeiss Auriga Compact 聚焦離子束顯微鏡 (FIB-SEM) 聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后，通過(guò)結(jié)合相應(yīng)的氣體
2021-11-06 09:43:132785 
玻璃光學(xué)無(wú)影膠（UV膠）用玻璃光學(xué)無(wú)影膠（UV膠）具體應(yīng)用點(diǎn)有哪些？來(lái)粘接玻璃效果非常好，不僅能實(shí)現(xiàn)完全透明，粘接強(qiáng)度有保證，玻璃光學(xué)無(wú)影膠（UV膠）實(shí)現(xiàn)了透明玻璃的美觀性，還具有高透光性
2021-11-12 09:11:17546 在光學(xué)行業(yè)中，UV膠水的應(yīng)用十分廣泛，包括粘接、密封、臨時(shí)保護(hù)、定位等制作工藝都需要用到UV膠水，而這其中，高折射率UV膠水更是光學(xué)行業(yè)的寵兒。
2022-03-07 13:02:031982 光學(xué)鍍膜是光學(xué)元件的重要組成部分。精確的光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)和生產(chǎn)工藝能夠保證產(chǎn)品性能及其長(zhǎng)期工作可靠性。
2022-03-25 09:37:231570 我們測(cè)量了硅化物膜(CoSi2、NiSi2、TiSi2和WSi)的濺射刻蝕速率，并研究了離子能量的依賴性，發(fā)現(xiàn)它們與二氧化硅薄膜的相對(duì)濺射刻蝕速率幾乎與濺射離子能量無(wú)關(guān)，從相對(duì)濺射蝕刻速率和計(jì)算
2022-05-07 15:41:461126 
物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition， PVD)工藝是指采用物理方法，如真空蒸發(fā)、濺射 （Sputtering）鍍膜、離子體鍍膜和分子束外延等，在圓片表面形成薄膜。
2022-11-03 15:32:204187 可以想象，聚焦離子束就像一把尖端只有數(shù)十納米的手術(shù)刀。離子束在靶材表面產(chǎn)生的二次電子成像具有納米級(jí)別的顯微分辨能力，所以聚焦離子束系統(tǒng)相當(dāng)于一個(gè)可以在高倍顯微鏡下操作的微加工臺(tái)，它可以用來(lái)在任何一個(gè)部位濺射剝離或沉積材料。
2022-11-16 14:26:13469 二次離子質(zhì)譜（SIMS）是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束（通常是氧氣或（無(wú)機(jī)樣品用銫離子）“濺射”樣品表面上選定區(qū)域的材料。
2022-11-22 10:44:09652 
科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的聚焦離子束技術(shù)（FIB）利用高強(qiáng)度聚焦離子束對(duì)材料進(jìn)行納米加工，配合掃描電鏡（SEM）等高倍數(shù)電子顯微鏡實(shí)時(shí)觀察，成為了納米
2023-01-16 17:10:221891 濺射鍍膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氬(Ar)氣的真空條件下，使氬氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+)，氬離子在電場(chǎng)力的作用下加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。
2023-02-24 09:51:092595 真空鍍膜是薄膜技術(shù)的最具潛力的手段，也是納米技術(shù)的主要支撐技術(shù)。所謂納米技術(shù)，如果離開(kāi)了真空鍍膜，它將會(huì)失去半壁江山。
2023-03-13 12:18:53819 有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面，發(fā)生表面原子碰撞并產(chǎn)生能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移，使靶材原子從表面逸出并沉積在襯底材料上的過(guò)程。
2023-04-18 10:30:071772 離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術(shù)，可與濺射或熱蒸發(fā)工藝一起使用，以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質(zhì)量薄膜。
2023-06-08 11:10:22986 
上海伯東美國(guó)?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665 
上海伯東客戶某高校使用國(guó)產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過(guò)程中, 國(guó)產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個(gè)小時(shí)就會(huì)燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, 無(wú)法滿足長(zhǎng)時(shí)間離子束濺射鍍膜的工藝要求, 導(dǎo)致
2023-05-25 15:53:36770 
真空鍍膜機(jī)作為一種關(guān)鍵設(shè)備，用于在真空環(huán)境下進(jìn)行薄膜涂覆。在光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)。對(duì)電流的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)和控制是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵。傳統(tǒng)電流傳感器在真空環(huán)境中存在溫漂大、精度低等問(wèn)題，制約
2023-06-13 15:06:38817 
電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。
2023-06-27 10:08:555855 
近日，復(fù)合集流體設(shè)備廠商——無(wú)錫光潤(rùn)真空科技有限公司（下稱“光潤(rùn)真空”）完成天使輪融資，本輪融資由無(wú)錫市天使基金獨(dú)家完成。本輪融資資金將主要用于推進(jìn)復(fù)合集流體專用磁控濺射鍍膜設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn)，加速
2023-06-30 15:28:12525 NanoFab 顯微鏡可在鎵、氖及氦離子束之間實(shí)現(xiàn)無(wú)縫切換。 產(chǎn)品特點(diǎn)： 快速亞 10 nm 結(jié)構(gòu)加工 使用氖和氦離子束加工有超高精度要求的精細(xì)亞 10 納米結(jié)構(gòu)。無(wú)論是使用濺射、氣體輔助切割、氣體
2023-07-19 15:45:07244 
光通信的信息載體是光波,?為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號(hào)的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國(guó) KRi 離子源通過(guò)離子束濺射, 輔助薄膜沉積等工藝在離子束鍍膜系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)光模塊
2023-08-07 14:08:31457 
上海伯東美國(guó) KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū).
2023-05-11 13:26:30414 
在車載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié), 鍍膜機(jī)通過(guò)加裝上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源對(duì)于加強(qiáng)膜層致密性, 實(shí)現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透, 明顯提升工藝效果.
2023-05-11 13:36:08442 
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.
2023-05-25 10:18:34501 
博仕檢測(cè)聚焦離子束FIB-SEM測(cè)試案例
2023-09-04 18:49:41461 
上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng) 光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛. 光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學(xué)鍍膜是光學(xué)器件上的單個(gè)或多個(gè)材料沉積薄層, 實(shí)現(xiàn)
2023-09-08 11:34:11677 
聚焦離子束與電子束曝光系統(tǒng)相似，由發(fā)射源、離子光柱、工作臺(tái)、真空與控制系統(tǒng)等結(jié)構(gòu)組成，其核心為離子光學(xué)系統(tǒng)，適用的是液態(tài)金屬離子源（例如鎵離子源）。
2023-10-10 12:49:18764 
上海伯東美國(guó) KRi 高能量射頻離子源 RFICP 220 應(yīng)用于光學(xué)鍍膜機(jī), 增強(qiáng)光學(xué)基片反射及透射率, 助力光學(xué)薄膜技術(shù)發(fā)展.
2023-11-14 12:57:22305 磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見(jiàn)的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，具有速度快、溫度低、損傷小等優(yōu)點(diǎn)，其關(guān)鍵特點(diǎn)是使用一個(gè)磁場(chǎng)來(lái)控制并增強(qiáng)濺射過(guò)程。已發(fā)展成為工業(yè)鍍膜中非
2023-12-04 11:17:41245 
上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積
2023-05-25 10:22:37
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論