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　　基于MEMS的閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)是一種全新的顯示技術(shù), 它的基本工作原理為：平行的復(fù)合白色光線以固定的入射角照射在閃耀光柵微鏡陣列上，驅(qū)動電路驅(qū)動每個像素單元的閃耀光柵微鏡偏轉(zhuǎn)不同角度，在特定的衍射方向上得到的R、G、B以及不可見波長的光線經(jīng)過成像鏡頭后形成彩色畫面。

　　微鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計的基本要求

　　閃耀光柵數(shù)字微鏡顯示技術(shù)的核心部件是閃耀光柵數(shù)字微鏡。要達到便攜應(yīng)用和投影應(yīng)用的目的，閃耀光柵數(shù)字微鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計需滿足以下基本要求。

　　盡可能減小顯示單元的尺寸

　　為了得到準(zhǔn)確的基色，要求入射的復(fù)合白色光線在微鏡總像素尺度范圍內(nèi)保持平行，否則，由于入射光線的角度偏差，將導(dǎo)致畫面色彩的偏離。當(dāng)微鏡總像素尺度較小時，容易得到理想的、具有較強亮度的平行照射光線。若增加像素單元尺寸，需要更大面積的平行強光，這無疑會增加光源系統(tǒng)的功率和制造成本。

　　盡可能提高像素的填充率

　　閃耀光柵數(shù)字微鏡的填充率主要取決于像素間距，而像素間距的大小又與驅(qū)動方式有關(guān)。在MEMS系統(tǒng)中，最為高效的驅(qū)動方式為靜電驅(qū)動。通過在兩塊板上施加電壓，可以在板間形成靜電場，兩片板間的靜電力由以下公式計算。

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　　式中，er為相對介電常數(shù)，eo為自由空間介電常數(shù)，W是電極板的寬，L是電極板長，d是電極板間的距離，V為施加于電極板之間的電壓，是垂直于電極板的靜電力。

　　從以上公式可知，靜電力的大小與電極板之間的距離平方成反比，與電極板的面積成正比，降低板間距離和增加電極板面積都能增加靜電力。梳狀電極是增加面積的常用方式，在單鏡以及掃描鏡成像方式中，梳狀致動器被廣泛采用。通常，梳狀致動器需耗用較大硅面積，對于像素陣列而言，這將極大降低填充率，無法形成可以接受的顯示畫面。提高靜電力的更好辦法是盡可能降低電極板之間的距離。

　　采用盡可能低的驅(qū)動電壓

　　從靜電力公式還可以看到，靜電力的大小與驅(qū)動電壓的平方成正比。提高驅(qū)動電壓可以有效地提高靜電力。對于便攜應(yīng)用，電源通常是鋰電池，輸出電壓多為十伏以內(nèi)。這就要求微鏡的驅(qū)動電壓也必須與之相適應(yīng)，基于固定應(yīng)用的220V電壓驅(qū)動電壓顯然不適合用于移動應(yīng)用中。

　　確定的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)要確保微鏡具有足夠的強度和壽命

　　與GLV通過光柵節(jié)距的變化來實現(xiàn)光線的空間調(diào)制不同，閃耀光柵微鏡是通過微鏡的偏轉(zhuǎn)，使入射光線的入射角發(fā)生變化來實現(xiàn)光線的空間調(diào)制。微鏡的偏轉(zhuǎn)主要有變形、移動、活塞和扭轉(zhuǎn)等方式。變形、移動和活塞方式通常利用材料的變形來產(chǎn)生，例如，在壓電或聚合材料上施加電壓時，能使這些材料產(chǎn)生較大尺度的變形，經(jīng)過運動機構(gòu)的作用，使材料變形轉(zhuǎn)變?yōu)殓R面的轉(zhuǎn)動。在以上方式中，扭轉(zhuǎn)軸方式以響應(yīng)速度快、黏結(jié)性低、無磨損的優(yōu)點被廣泛采用。扭轉(zhuǎn)微鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計時要考慮的主要內(nèi)容是要能夠用盡可能低的驅(qū)動電壓達到所需偏轉(zhuǎn)角度的同時，還需保證特定材料的幾何結(jié)構(gòu)能通過剪切應(yīng)力的校核。

　　根據(jù)材料力學(xué)，矩形截面扭轉(zhuǎn)軸的扭轉(zhuǎn)角由以下公式確定：

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　　式中，T為電極板產(chǎn)生的靜電力引起的對于扭轉(zhuǎn)軸的扭矩，L為扭轉(zhuǎn)軸支點到扭轉(zhuǎn)軸鏡面連接點的長度，G為扭轉(zhuǎn)軸所用材料的剪切彈性模量，J為矩形截面扭轉(zhuǎn)軸的慣性矩。矩形截面扭轉(zhuǎn)軸的慣性矩J由以下公式確定。

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　　式中，a,b分別是扭轉(zhuǎn)軸矩形截面的高和寬

　　從扭轉(zhuǎn)角公式可以看到，扭轉(zhuǎn)軸的扭轉(zhuǎn)角度取決于材料的剪切彈性摸量、扭轉(zhuǎn)軸長度、材質(zhì)特性以及施加的力矩。在材料以及驅(qū)動靜電力確定的情況下，扭轉(zhuǎn)軸的截面尺寸和長度在很大程度上影響了扭轉(zhuǎn)角的大小。當(dāng)扭轉(zhuǎn)軸的扭轉(zhuǎn)剛度GJ變小時，相同的驅(qū)動電壓下可以得到較大的扭軸轉(zhuǎn)角。對于給定的扭矩和材料，計算出滿足所需轉(zhuǎn)角的幾何尺寸后，還需利用計算出的幾何尺寸反算扭轉(zhuǎn)軸的剪切應(yīng)力，只有當(dāng)剪切應(yīng)力在材料的許可范圍內(nèi)時，才能保證扭轉(zhuǎn)軸具有可靠的壽命。

　　滿足現(xiàn)有的半導(dǎo)體工藝制程

　　微鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計的一個重要基礎(chǔ)是結(jié)構(gòu)設(shè)計須基于所采用的工藝制程來展開，不能將傳統(tǒng)機械設(shè)計的傳統(tǒng)加工方法應(yīng)用到微機械的設(shè)計上。微鏡結(jié)構(gòu)擬訂的工藝制程為表面加工技術(shù)。為了達到較高的1024×768的分辨率，最好采用0.13微米的工藝，這需采用8英寸晶圓的生產(chǎn)線來生產(chǎn)。為降低試制成本，也可以先設(shè)計640×480VGA標(biāo)準(zhǔn)的顯示器，這樣，就可選用我國普遍具備的6英寸晶圓生產(chǎn)線的0.5微米工藝來實施制造。