得以延續(xù)。 ? 在高速增長(zhǎng)的半導(dǎo)體市場(chǎng)里,半導(dǎo)體制造商們不斷創(chuàng)新,芯片集成度越來(lái)越高,對(duì)光刻技術(shù)也提出了越來(lái)越高的要求。隨著芯片集成度的與日俱增正在對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈帶來(lái)前所未有的挑戰(zhàn),制造商們渴求更高效、更低成本
2023-07-16 01:50:153007 NVIDIA 于今日宣布,為加快下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的制造速度并克服物理限制,TSMC 和 Synopsys 將在生產(chǎn)中使用 NVIDIA 計(jì)算光刻平臺(tái)。
2024-03-20 09:52:0088 好的選擇。它改變了半導(dǎo)體行業(yè)的軌跡,為臺(tái)積電提供了實(shí)質(zhì)性的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
這種模式可以帶來(lái)很多好處。執(zhí)行設(shè)計(jì)技術(shù)協(xié)同優(yōu)化 (DTCO) 的能力非常有用。下圖展示了臺(tái)積電 OIP 的覆蓋廣度。先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)
2024-03-13 16:52:37
想問(wèn)一下,半導(dǎo)體設(shè)備需要用到溫度傳感器的有那些設(shè)備,比如探針臺(tái)有沒(méi)有用到,具體要求是那些,
2024-03-08 17:04:59
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 共讀好書 半導(dǎo)體產(chǎn)品在由二維向三維發(fā)展,從技術(shù)發(fā)展方向半導(dǎo)體產(chǎn)品出現(xiàn)了系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)等新的封裝方式,從技術(shù)實(shí)現(xiàn)方法出現(xiàn)了倒裝(FlipChip),凸塊(Bumping),晶圓級(jí)封裝(Wafer
2024-02-21 10:34:20176 半導(dǎo)體價(jià)值鏈的制造階段包括晶圓制造、前段制程、中段制程、后段制程和遠(yuǎn)端制程。
2024-02-19 16:43:38220 作者:Jens Wallmann 投稿人:DigiKey 歐洲編輯 集成電路 (IC) 的需求比以往任何時(shí)候都大,因?yàn)樗鼈兘档土擞布_發(fā)成本,促進(jìn)了電子設(shè)備的小型化,并提供廣泛的功能。為了確保大批量
2024-02-13 12:36:00229 高價(jià)值模擬半導(dǎo)體代工解決方案的領(lǐng)先廠商Tower Semiconductor今日宣布與瑞薩電子建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系。雙方將利用Tower的先進(jìn)大批量高性能SiGe BiCMOS技術(shù),共同制造基于SiGe的波束成形集成電路(IC)。
2024-02-05 10:15:37408 半導(dǎo)體晶圓形貌厚度測(cè)量的意義與挑戰(zhàn)半導(dǎo)體晶圓形貌厚度測(cè)量是半導(dǎo)體制造和研發(fā)過(guò)程中至關(guān)重要的一環(huán)。它不僅可以提供制造工藝的反饋和優(yōu)化依據(jù),還可以保證半導(dǎo)體器件的性能和質(zhì)量。在這個(gè)領(lǐng)域里,測(cè)量的準(zhǔn)確性
2024-01-18 10:56:121 來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元,為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子束光刻系統(tǒng)(E-Beam)將用于為半導(dǎo)體
2024-01-15 17:33:16175 據(jù)智程半導(dǎo)體官方網(wǎng)站介紹,其創(chuàng)立于 2009 年,專注于半導(dǎo)體濕制程設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)及銷售,服務(wù)覆蓋集成電路制造、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體及半導(dǎo)體襯底等多個(gè)領(lǐng)域。
2024-01-12 14:09:58228 光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21343 1月1日消息,據(jù)日媒報(bào)道,日本半導(dǎo)體制造設(shè)備制造巨頭Tokyo Electron(TEL)將把新員工的起薪月薪提高約40%,通過(guò)使其薪酬與外國(guó)同行保持一致來(lái)確保人才。
2024-01-03 16:39:281056 來(lái)源:中國(guó)電子報(bào) 來(lái)源:ASML官網(wǎng) 通用人工智能的浪潮催生了對(duì)高性能計(jì)算芯片的需求,作為芯片制造的核心設(shè)備,EUV光刻機(jī)備受關(guān)注,ASML的重要性越發(fā)凸顯,而在這股浪潮中,半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的格局
2024-01-02 15:37:55127 關(guān)于本次地震是否導(dǎo)致受損情況,發(fā)生事故后,當(dāng)?shù)貛准以O(shè)立工廠的半導(dǎo)體企業(yè)稱,正積極評(píng)估當(dāng)?shù)貭顩r。據(jù)悉,東芝在石川已有功率半導(dǎo)體制造場(chǎng)地,并于 2022 年公布規(guī)劃新建 300 毫米晶圓設(shè)施,預(yù)期 2024 年實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)
2024-01-02 09:21:10324 使用13.5nm波長(zhǎng)的光進(jìn)行成像的EUV光刻技術(shù)已被簡(jiǎn)歷。先進(jìn)的邏輯產(chǎn)品依賴于它,DRAM制造商已經(jīng)開始大批量生產(chǎn)。
2023-12-29 15:22:31172 半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測(cè)環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測(cè)試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、CMP設(shè)備、清洗機(jī)、前道檢測(cè)設(shè)備和氧化退火設(shè)備,后道設(shè)備主要分為測(cè)試設(shè)備和封裝設(shè)備。
2023-12-27 10:57:48281 如今,半導(dǎo)體制造工藝快速發(fā)展,每一代新技術(shù)都在減小集成電路(IC)上各層特征的間距和尺寸。晶圓上高密度的電路需要更高的精度以及高度脆弱的先進(jìn)制造工藝。
2023-12-25 14:50:47174 Electronics Fair,CEF)上,記者看到了國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備一些新進(jìn)展。作為一家具備世界先進(jìn)技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱:盛美上海)也參加了此次CEF,并展示了該公司近一年來(lái)發(fā)布的新產(chǎn)品。 ? 2024年前道涂膠
2023-12-21 10:37:03621 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日,韓國(guó)三星半導(dǎo)體與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商 ASML 簽署了價(jià)值7.55 億美元的協(xié)議,兩家公司將在韓國(guó)投資建造半導(dǎo)體芯片研究工廠,并將在該研究工廠開發(fā)新一代 EUV 半導(dǎo)體制造
2023-12-21 09:01:571159 如今的車輛可能配備了 200 到 2000 顆半導(dǎo)體芯片用于供電、傳感和信息處理,旨在確保我們的安全。半導(dǎo)體的創(chuàng)新成果可助力汽車制造商打造技術(shù)先進(jìn)的車輛。
2023-12-20 09:27:31288 光刻膠類別的多樣化,此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品,也是未來(lái)各地廠家的競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)。當(dāng)前市場(chǎng)中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408 NanoCleave? 層釋放系統(tǒng),這是第一個(gè)采用EVG革命性NanoCleave技術(shù)的產(chǎn)品平臺(tái)。EVG850 NanoCleave系統(tǒng)采用紅外(IR)激光,在經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的大批量制造(HVM)平臺(tái)上結(jié)合專門配制
2023-12-13 17:26:46489 線路板生產(chǎn)該選大批量還是小批量?
2023-12-13 17:22:10332 根據(jù)不同的誘因,常見的對(duì)半導(dǎo)體器件的靜態(tài)損壞可分為人體,機(jī)器設(shè)備和半導(dǎo)體器件這三種。
當(dāng)靜電與設(shè)備導(dǎo)線的主體接觸時(shí),設(shè)備由于放電而發(fā)生充電,設(shè)備接地,放電電流將立即流過(guò)電路,導(dǎo)致靜電擊穿。外部物體
2023-12-12 17:18:54
近期,萬(wàn)潤(rùn)股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營(yíng)。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58324 研發(fā)進(jìn)度,盡快成長(zhǎng)為國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備領(lǐng)域的龍頭企業(yè),為無(wú)錫高新區(qū)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展添磚加瓦。 資料顯示,無(wú)錫埃瑞微半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司是一家專注于集成電路前道工藝量檢測(cè)設(shè)備研發(fā)及制造的科技創(chuàng)新型企業(yè),致力于為
2023-12-05 17:49:42459 據(jù)了解,無(wú)錫埃瑞微半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司以集成電路的全會(huì)工程正在專心研發(fā)制造量測(cè)量設(shè)備,為光刻工藝的大量生產(chǎn)誤差為代表的夾注測(cè)量設(shè)備和其他缺陷正在致力提供監(jiān)測(cè)設(shè)備。
2023-12-04 10:09:36288 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 鑫巨半導(dǎo)體將于2020年6月成立,致力于研究和開發(fā)的制造ic再板和具備先進(jìn)制造過(guò)程包裝所需奶設(shè)備的尖端技術(shù)企業(yè),具備制造過(guò)程大小的設(shè)備制造能力和工藝技術(shù);主要產(chǎn)品為高階濕制程設(shè)備,主要面向的工藝制程為精密電鍍和精密刻蝕及配套處理環(huán)節(jié)
2023-11-30 12:09:46654 。 在第102屆中國(guó)電子展(China Electronics Fair,CEF)上,記者看到了國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備一些新進(jìn)展。作為一家具備世界先進(jìn)技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱:盛美上海)也參加了此次CEF,并展示了該公司近一年來(lái)
2023-11-30 00:14:00998 [半導(dǎo)體前端工藝:第三篇] 光刻——半導(dǎo)體電路的繪制
2023-11-29 11:25:52242 線邊緣粗糙度(LER)如何影響先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上半導(dǎo)體的性能?
2023-11-24 16:04:00147 就國(guó)別來(lái)看,來(lái)自荷蘭的進(jìn)口額暴漲了超過(guò)6倍。預(yù)估其中大部分為荷蘭光刻機(jī)龍頭艾ASML的光刻機(jī)產(chǎn)品。來(lái)自日本的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口額成長(zhǎng)約40%、來(lái)自美國(guó)的進(jìn)口額則僅增長(zhǎng)20%。
2023-11-22 17:09:02419 根據(jù)中國(guó)海關(guān)數(shù)據(jù)分析,今年第三季度(7-9月)中國(guó)進(jìn)口的半導(dǎo)體制造設(shè)備金額較去年同期激增了93%,達(dá)到634億元人民幣。其中進(jìn)口光刻設(shè)備的金額更是增長(zhǎng)了近4倍。
2023-11-16 17:44:38597 更是如此。中國(guó)的芯片進(jìn)口量已經(jīng)超過(guò)了石油進(jìn)口量,各種半導(dǎo)體芯片在日常設(shè)備中無(wú)處不在。 在芯片的制造過(guò)程中,光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備。目前,最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)波長(zhǎng)只有13.5nm,是制造7nm及以下高端芯片的重要設(shè)備。但EUV光刻機(jī)非常昂貴和復(fù)雜,每臺(tái)價(jià)
2023-11-08 15:57:14199 28.3%股份的專業(yè)代工芯片制造商世界先進(jìn)公司,計(jì)劃建設(shè)首個(gè)12英寸芯片工廠,以滿足對(duì)汽車相關(guān)芯片的需求。汽車和其他電子設(shè)備的電氣化對(duì)成熟半導(dǎo)體供應(yīng)的需求不斷增長(zhǎng),以及需要維持多個(gè)地點(diǎn)的產(chǎn)能以適應(yīng)地緣政治緊張局勢(shì)和客戶需求,這些都推動(dòng)了這一轉(zhuǎn)型。 消息人士估計(jì),在新加坡的投資將
2023-11-07 15:49:52984 升滕半導(dǎo)體正努力成為“以整體技術(shù)鏈條為客戶提供生命周期解決方案的一站式服務(wù)提供商”,提供泛半導(dǎo)體制造成套設(shè)備和設(shè)備的核心0/配件、清掃、修理、涂層等產(chǎn)品和服務(wù)。
2023-11-03 11:16:35614 光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359 半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代電子技術(shù)的關(guān)鍵領(lǐng)域,半導(dǎo)體制造過(guò)程中的熱處理是確保半導(dǎo)體器件性能和可靠性的重要步驟之一。熱處理設(shè)備在半導(dǎo)體工廠中扮演著關(guān)鍵角色,用于控制材料的結(jié)構(gòu)和性能,確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量。本文將探討半導(dǎo)體行業(yè)常用的熱處理設(shè)備,以及它們?cè)?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體生產(chǎn)中的作用和重要性。
2023-10-26 08:51:381497 、電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)、芯片設(shè)計(jì)、設(shè)備、材料、制造和研究)的47家公司的行業(yè)知名人士參與了今年的調(diào)查。 80%的受訪者認(rèn)為,到2028年,將有多家公司在大批量制造(HVM)中廣泛采用高數(shù)值孔徑EUV
2023-10-17 15:00:01224 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上,是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491671 覆蓋45nm至7nm,預(yù)計(jì)相關(guān)產(chǎn)品最早于2024年下半年獲得訂單,2025年將進(jìn)入大批量生產(chǎn)階段。 ? 什么是硅光子技術(shù) ? 硅光子技術(shù)用激光束代替電子信號(hào)傳輸數(shù)據(jù),是一種基于硅光子學(xué)的低成本、高速的光通信技術(shù)。英特爾實(shí)驗(yàn)室通過(guò)混合硅激光
2023-09-19 01:27:001662 芯片廠商在近幾年抓住行業(yè)東風(fēng),在消費(fèi)電子、工業(yè)以及物聯(lián)網(wǎng)、汽車市場(chǎng)都取得了突破性進(jìn)展。為此,電子發(fā)燒友網(wǎng)于2023年9月14日在深圳益田威斯汀酒店召開舉辦“2023第五屆模擬半導(dǎo)體大會(huì)”,大會(huì)邀請(qǐng)眾多
2023-09-15 16:52:45
硅或碳化硅芯片,將使政府、各種規(guī)模的企業(yè)和大學(xué)能夠用碳化硅制作原型,從而引入美國(guó)目前尚不存在的能力。 這一獨(dú)特的設(shè)施將為大批量生產(chǎn)提供小批量原型制造,縮小傳統(tǒng)大學(xué)研究與私營(yíng)企業(yè)需求之間的差距。這將加速半導(dǎo)體領(lǐng)域的勞動(dòng)力發(fā)
2023-09-13 14:29:45125 用 NFC 技術(shù)可提高流程效率并優(yōu)化成本。為了滿足這些市場(chǎng)需求,意法半導(dǎo)體提供了 ST25 NFC讀寫器和標(biāo)簽,用于設(shè)計(jì)先進(jìn)的集成式讀寫器+標(biāo)簽NFC 解決方案。意法半導(dǎo)體將為這一強(qiáng)大而安全的集成方案提供專業(yè)支持。
2023-09-13 06:01:57
根據(jù)專利摘要,本申請(qǐng)提供如下評(píng)價(jià)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)效率的方法及裝置:評(píng)價(jià)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)效率的方法是:提供1個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備,半導(dǎo)體設(shè)備至少包括1個(gè)制造單元。半導(dǎo)體設(shè)備獲得按順序生產(chǎn)多個(gè)晶圓的生產(chǎn)參數(shù)
2023-09-12 09:39:30276 根據(jù)專利摘要,該公開是關(guān)于晶圓處理設(shè)備和半導(dǎo)體制造設(shè)備的。晶圓處理設(shè)備由:由支持晶圓構(gòu)成的晶圓支持部件,光源排列位于晶圓的支持方向,適合對(duì)晶圓進(jìn)行光輻射加熱。光源陣列至少使晶圓半徑方向上的所有光點(diǎn)都近而不重疊
2023-09-08 09:58:29544 半導(dǎo)體芯片為什么要在真空下進(jìn)行 半導(dǎo)體芯片是現(xiàn)代電子技術(shù)的基礎(chǔ),它是計(jì)算機(jī)、手機(jī)、電視等電子設(shè)備的核心。半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)的先進(jìn)程度越高,計(jì)算能力也就越強(qiáng),設(shè)備的體積和功耗也會(huì)越來(lái)越小。因此
2023-09-07 16:04:271038 今天我們來(lái)聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用,說(shuō)起半導(dǎo)體清洗,是指對(duì)晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗,用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測(cè)試每個(gè)步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì),避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率,為企業(yè)實(shí)現(xiàn)降本增效的目的。
2023-09-04 18:47:39787 湖北工業(yè)信息消息,長(zhǎng)飛先進(jìn)半導(dǎo)體項(xiàng)目位于光谷科學(xué)島,項(xiàng)目總投資有望超過(guò)200億元人民幣。該項(xiàng)目一期投資100億元,每年可生產(chǎn)36萬(wàn)個(gè)sic mosfet晶片,包括外延、零部件設(shè)計(jì)、晶片制造、包裝等。
2023-09-04 10:55:011782 半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)垂直化分工格局,上游包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體制造設(shè)備等;中游為半導(dǎo)體生產(chǎn),具體可劃分為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試;半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下 游為各類終端應(yīng)用。
2023-08-29 16:24:59761 半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)垂直化分工格局,上游包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體制造設(shè)備等;中游為半導(dǎo)體生產(chǎn),具體可劃分為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試;半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下 游為各類終端應(yīng)用。
2023-08-29 09:48:351796 設(shè)備,涵蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積、熱處理、清洗和檢驗(yàn)等。DIGITIMES Research分析師Eric Chen表示,對(duì)光刻和薄膜沉積設(shè)備的限制更有可能實(shí)施,從而影響中國(guó)先進(jìn)的半導(dǎo)體制造。 值得注意的是,在刻蝕設(shè)備方面,Eric Chen指出,日本對(duì)硅鍺(SiGe)的
2023-08-28 16:45:011551 設(shè)備,涵蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積、熱處理、清洗和檢驗(yàn)等。DIGITIMES Research分析師Eric Chen表示,對(duì)光刻和薄膜沉積設(shè)備的限制更有可能實(shí)施,從而影響中國(guó)先進(jìn)的半導(dǎo)體制造。 ? 2. 分析師:iPhone 15 系列因供應(yīng)問(wèn)題減產(chǎn)1100 萬(wàn)部 ? 據(jù)報(bào)道,預(yù)計(jì)蘋果將在今
2023-08-28 11:19:30579 半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 批量式清洗機(jī)、單晶圓清洗機(jī)和集群工具清洗機(jī)。 批式清洗機(jī)用于一次清洗大量晶圓。單晶圓清洗機(jī)用于一次清洗一個(gè)晶圓。集群工具清潔器用于一次清潔多個(gè)晶圓。全球半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)正在以健康的速度增長(zhǎng)。推動(dòng)該市場(chǎng)增長(zhǎng)
2023-08-22 15:08:001225 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 編輯:感知芯視界 自從中美半導(dǎo)體貿(mào)易摩擦以來(lái),二手半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)逐漸受到關(guān)注,半導(dǎo)體制造設(shè)備產(chǎn)能短缺給二手半導(dǎo)體設(shè)備公司帶來(lái)了機(jī)遇。二手半導(dǎo)體設(shè)備在國(guó)外,特別是韓國(guó)、日本
2023-08-21 09:31:06392 先楫半導(dǎo)體使用上怎么樣?
2023-08-08 14:56:29
EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對(duì)于極紫外光刻(EUVL)這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù),用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02396 半導(dǎo)體芯片是現(xiàn)代電子領(lǐng)域的大腦。事實(shí)上,在通信、計(jì)算、零售、醫(yī)療保健和運(yùn)輸應(yīng)用領(lǐng)域,半導(dǎo)體芯片為各種先進(jìn)技術(shù)提供了基礎(chǔ)。2020年全球半導(dǎo)體銷售額增長(zhǎng)6.5%,相關(guān)制造設(shè)備的生產(chǎn)需求也相應(yīng)
2023-08-01 13:46:18299 半導(dǎo)體技術(shù)的未來(lái)通常是通過(guò)光刻設(shè)備的鏡頭來(lái)看待的,盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問(wèn)題幾乎永無(wú)休止,但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來(lái)的工藝節(jié)點(diǎn)提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。
2023-07-27 15:24:51609 日本在半導(dǎo)體界一直以設(shè)備和材料笑傲群雄,2019年一則禁令一度扼住韓國(guó)半導(dǎo)體喉嚨,涉及材料包括高純氟化氫、氟聚酰亞胺、感光劑光刻膠,直到幾個(gè)月前,受傷的雙方才握手言和。
2023-07-27 09:54:55828 & Test)技術(shù)幾乎貫穿于半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)。它們是確保工藝制程和產(chǎn)品質(zhì)量的重要屏障。先進(jìn)半導(dǎo)體制造前道的量測(cè)環(huán)節(jié),主要進(jìn)行制程控制和缺陷分析,通過(guò)光學(xué)檢測(cè)不同材質(zhì)、厚度及結(jié)構(gòu)的微觀外貌。它分為量測(cè)(OCD、SEM、膜厚測(cè)量、光刻校準(zhǔn))、缺陷檢測(cè)、電子束
2023-07-17 20:04:11150 研究人員針對(duì)擴(kuò)大二維半導(dǎo)體晶圓尺寸和批量制備的核心科學(xué)問(wèn)題,提出了一種全新的模塊化局域元素供應(yīng)生長(zhǎng)策略,成功實(shí)現(xiàn)了最大尺寸為12英寸的二維半導(dǎo)體晶圓的批量制備。
2023-07-13 11:16:00211 晶圓級(jí)二維半導(dǎo)體的批量制備,是推動(dòng)相應(yīng)先進(jìn)技術(shù)向產(chǎn)業(yè)化過(guò)渡的關(guān)鍵所在。二維半導(dǎo)體薄膜尺寸需達(dá)到與硅基技術(shù)兼容的直徑300 mm(12-inch)標(biāo)準(zhǔn),以平衡器件產(chǎn)量與制造成本。因此,批量化、大尺寸、低成本制備過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓是二維材料走向?qū)嶋H應(yīng)用亟待解決的關(guān)鍵問(wèn)題之一。
2023-07-13 10:36:11442 二維半導(dǎo)體是一種新興半導(dǎo)體材料,具有優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì),以單層過(guò)渡金屬硫族化合物為代表。與傳統(tǒng)半導(dǎo)體發(fā)展路線類似,晶圓材料是推動(dòng)二維半導(dǎo)體技術(shù)邁向產(chǎn)業(yè)化的根基。如何實(shí)現(xiàn)批量化、大尺寸、低成本制備二維半導(dǎo)體晶圓是亟待解決的科學(xué)問(wèn)題。
2023-07-12 16:01:13364 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,每個(gè)半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過(guò)數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝,前道工藝是整個(gè)制造過(guò)程中最為重要的部分,它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成,涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟,技術(shù)難點(diǎn)多,操作復(fù)雜。
2023-07-11 11:25:552889 該研究提出模塊化局域元素供應(yīng)生長(zhǎng)技術(shù),成功實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體性二維過(guò)渡金屬硫族化合物晶圓批量化高效制備,晶圓尺寸可從2英寸擴(kuò)展至與現(xiàn)代半導(dǎo)體工藝兼容的12英寸,有望推動(dòng)二維半導(dǎo)體材料由實(shí)驗(yàn)研究向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用過(guò)渡,為新一代高性能半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展奠定了材料基礎(chǔ)。
2023-07-10 18:20:39504 ,半導(dǎo)體制造領(lǐng)域使用 傳統(tǒng)大功率汞燈技術(shù) 用于光刻設(shè)備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高,但輸出光譜范圍寬,制造和生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生對(duì)環(huán)境有害的物質(zhì),并且工作壽命短,更換周期頻繁。 UVLED 具有獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì),能夠輸
2023-07-05 10:11:241026 封測(cè)行業(yè)能否提升產(chǎn)業(yè)價(jià)值、取得重大突破的關(guān)鍵。從長(zhǎng)期來(lái)看,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于快速發(fā)展期,芯片設(shè)計(jì)公司和晶圓代工廠的增加將帶動(dòng)本地封測(cè)需求。先進(jìn)芯片堆疊、互連技術(shù)成為先進(jìn)封裝核心工藝,為Chiplet發(fā)展提供技術(shù)基礎(chǔ);5
2023-07-03 15:17:34490 在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過(guò)程和集成電路的部分發(fā)展史。現(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過(guò)該過(guò)程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過(guò)程與使用膠片相機(jī)拍照非常相似。但是具體是怎么實(shí)現(xiàn)的呢?
2023-06-28 10:07:472427 euv極紫外光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備,用于7納米以下工程的半導(dǎo)體制造。荷蘭對(duì)這種尖端設(shè)備實(shí)施出口控制,限制對(duì)中國(guó)的出口。據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,日本和荷蘭決定一致控制尖端產(chǎn)品制造設(shè)備的出口是在美國(guó)的壓力下做出的決定。
2023-06-26 10:28:08396 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中,除了光刻機(jī)等設(shè)備外,光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來(lái)說(shuō),這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料,經(jīng)過(guò)曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001984 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供更高的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配
2023-06-20 17:18:12231 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié),大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備,市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng),大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī):多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合,核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008359 金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。MOSFET體積越小,單個(gè) MOSFET的耗電量就越少,還可以制造出更多的晶體管,讓其發(fā)揮作用,可謂是一舉多得。
2023-06-13 12:29:09596 機(jī)、離子注入機(jī)、拋光設(shè)備、清洗設(shè)備和檢測(cè)設(shè)備等。在整個(gè)半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,光刻是最復(fù)雜工藝,光刻工藝的費(fèi)用約占芯片制造成本的1/3左右,耗費(fèi)時(shí)間占比約為40-5
2023-06-12 10:13:334447 6月8日勁拓股份有限公司,據(jù)最新調(diào)研紀(jì)要的半導(dǎo)體舉行公共費(fèi)用和專用設(shè)備的半導(dǎo)體硅晶片制造設(shè)備,包括半導(dǎo)體召開公共非先進(jìn)的成套制造等生產(chǎn)階段的熱處理設(shè)備,半導(dǎo)體硅晶片制造設(shè)備是半導(dǎo)體硅晶片生產(chǎn)過(guò)程中使用的。”
2023-06-09 10:57:21550 光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 由于半導(dǎo)體禁令,整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)開始發(fā)生變化。原來(lái)世界上最先進(jìn)的半導(dǎo)體工廠臺(tái)積電將無(wú)法再為華為加工麒麟芯片,高通(qualcomm)、三星(三星)等半導(dǎo)體巨頭也將無(wú)法向中國(guó)提供自由的產(chǎn)品。
2023-06-09 10:37:43699 及半導(dǎo)體分立器件的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造和銷售的一體式高新科技企業(yè),專心致力于集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,力求為客戶提供性能優(yōu)異和供需及時(shí)的產(chǎn)品。產(chǎn)品主要包含電源管理IC,音頻功放,LED驅(qū)動(dòng),低功耗LDO,三端穩(wěn)壓
2023-05-26 14:24:29
半導(dǎo)體器件的制造流程包含數(shù)個(gè)截然不同的精密步驟。無(wú)論是前道工藝還是后道工藝,半導(dǎo)體制造設(shè)備的電源都非常重要。
2023-05-19 15:39:04478 近日,深圳國(guó)際半導(dǎo)體展覽會(huì)在深圳會(huì)展中心舉行,展示以芯片設(shè)計(jì)及制造、集成電路、封測(cè)、材料及設(shè)備、5G新應(yīng)用、新型顯示為主的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。有眾多光刻機(jī)、晶圓制造、半導(dǎo)體制造、顯示面板制造等設(shè)備
2023-05-19 10:11:38490 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))前不久,歐盟正式批準(zhǔn)了針對(duì)芯片行業(yè)的430億歐元投資計(jì)劃,欲求重振歐洲地區(qū)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。盡管坐擁ASML這一EUV光刻機(jī)寡頭企業(yè),也是諸多半導(dǎo)體巨頭的大本營(yíng)所在,全球
2023-05-15 07:05:002389 就日方計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍,中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)嚴(yán)正聲明。 2023年3月31日,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省大臣西村康稔在內(nèi)閣會(huì)議后的記者會(huì)上宣布修改《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》,計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口
2023-05-08 10:41:49891 經(jīng)過(guò)氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝,晶圓表面會(huì)形成各種半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體制造商會(huì)讓晶圓表面布滿晶體管和電容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532 書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章:金屬氧化物半導(dǎo)體的制造 編號(hào):JFKJ-21-207 作者:炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計(jì)規(guī)則 ? 互補(bǔ)金屬氧化物
2023-04-20 11:16:00247 占有率達(dá)到8.87%,位居行業(yè)第二。作為一家專業(yè)從事半導(dǎo)體分立器件研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè),晶導(dǎo)微擁有國(guó)際領(lǐng)先的GPP芯片生產(chǎn)工藝和先進(jìn)的SMD封裝技術(shù),形成了從分立器件芯片和框架的研發(fā)設(shè)計(jì)、制造
2023-04-14 16:00:28
占有率達(dá)到8.87%,位居行業(yè)第二。作為一家專業(yè)從事半導(dǎo)體分立器件研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè),晶導(dǎo)微擁有國(guó)際領(lǐng)先的GPP芯片生產(chǎn)工藝和先進(jìn)的SMD封裝技術(shù),形成了從分立器件芯片和框架的研發(fā)設(shè)計(jì)、制造
2023-04-14 13:46:39
TRUMPF(通快)的目標(biāo)是采用最先進(jìn)的大批量生產(chǎn)工藝制造短波紅外(SWIR)VCSEL,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定可靠且性能卓越的產(chǎn)品。
2023-04-04 10:49:161454 針對(duì)半導(dǎo)體制造工藝的UV-LED光源需求,虹科提供高功率的紫外光源解決方案,可適配步進(jìn)器和掩膜版設(shè)備,更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體質(zhì)量控制。
2023-03-29 10:35:41710 中微半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng) 中微半導(dǎo)體(上海)有限公司杭州分公司為中微半導(dǎo)體(上海)有限公司的下屬分公司,于2022年5月正式成立,其經(jīng)營(yíng)范圍包括銷售半導(dǎo)體設(shè)備和零件,軟件開發(fā),數(shù)據(jù)處理,智能家庭設(shè)備消費(fèi)
2023-03-28 13:52:43457 半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造過(guò)程主要包括前道晶圓制造和后道封裝測(cè)試,隨著先進(jìn)封裝技術(shù)的浸透,呈現(xiàn)了介于晶圓制造和封裝之間的加工環(huán)節(jié),稱為中道)。半導(dǎo)體產(chǎn)品的加工工序多,在制造過(guò)程中需求大量的半導(dǎo)體設(shè)備。在這里
2023-03-27 09:43:57485 GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計(jì)算光刻庫(kù)可以將計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍。這對(duì)于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說(shuō)
2023-03-23 18:55:377488
評(píng)論
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