D/F培訓講義
（一）流程：磨板→貼膜→曝光→顯影
一、磨板
1、表面處理 除去銅表面氧化物及其它污染物。
a. 硫酸槽配制 H2SO4 1-3％（V/V）。
b. 酸洗不低于10S。
2、 測試磨痕寬度 控制范圍10-15mm，磨痕超過15mm會出現橢圓孔或孔口邊沿無銅，一般控制10-12mm為宜。
3、水磨試驗 每日測試水膜破裂時間≥15s，試驗表明，在相同條件下磨痕寬度與水膜破裂時間成正比。
4、磨板控制 傳送速度1.2-2.5M/min，間隔1＂，水壓1.0-1.5bar，干燥溫度70-90℃。
二、干膜房
1、干膜房潔凈度10000級以上。
2、溫度控制20-24°C，超出此溫度范圍容易引起菲林變形。
3、濕度控制60-70％，超出此溫度范圍也容易引起菲林變形。
4、工作者每次進入干膜房必須穿著防塵服及防塵靴風淋15-20s。
三、貼膜
1、貼膜參數控制
a. 溫度100-120°C，精細線路控制115-120°C，一般線路控制105-110°C，粗線路控制100-105°C。
b. 速度＜3M/min。
c. 壓力30-60Psi，一般控制40Psi左右。
2、注意事項
a. 貼膜時注意板面溫度應保持38-40°C，冷板貼膜會影響干膜與板面的粘接性。
b. 貼裝前須檢查板面是否有雜物、板邊是否光滑等，若板邊毛刺過大會劃傷貼膜膠輥，影響使用壽命。
c. 在氣壓不變情況下，溫度較高時可適當加快傳送速度，較低時可適當減慢傳送速度，否則會出現皺膜或貼膜不牢，圖形電鍍時易產生滲鍍。
d. 切削干膜（手動貼膜機）時用力均勻，保持切邊整齊，否則顯影后出現菲林碎等缺陷。
e. 貼膜后須冷卻至室溫后方可進行曝光。
四、曝光
1、光能量
a.光能量（曝光燈管5000W）上、下燈控制40-100毫焦/平方厘米，用下曬架測試上燈，上曬架測試下燈。
b.曝光級數7-9級覆銅（Stoffer 21級曝光尺），一般控制8級左右，但此級數須顯影后才能反映出來，因此對顯影控制要求較嚴。
2、真空度
大于69CMHG,否則易產生虛光線細現象。
3、趕氣
趕氣須在真空度大于69CMHG以上且趕氣力度要均勻，否則會產生焊盤與孔位偏移，造成崩孔現象。
4、曝光
曝光時輕按快門，曝光停止后須立即取出板件，否則燈內余光長時間曝光，造成顯影后出現板面余膠。
五、顯影參數控制
1、溫度30±2℃。
2、Na2CO3濃度 1±0.2％
3、噴淋壓力 1.5-2.0kg/cm2
4、水洗壓力 1.5-2.0kg/cm2
5、干燥溫度 45～55℃
6、傳送速度 顯影點50±5%控制
六、重氮片
1、重氮片曝光
5000W曝光燈管，曝光能量：21級曝光尺1～2格透明。
2、重氮片顯影
20%氨水、溫度控制48～65℃，顯影3-7次至線路呈深棕色為止。
3、影響重氮片質量因素及防止
a. 線細
①由光反射及衍射造成；可用純黑色不反光平底板墊于重氮片下進行曝光消除此現象。
②曝光能量過強；適當降低曝光能量。
b. 顯影后出現斑點（俗稱鬼影）曝光能量不足，適當延長曝光時間。
c. 顏色偏淡 由以下因素構成
①溫度不夠；待調整溫度升至范圍值再顯影。
②氨水過期，濃度降低，更換氨水。
③顯影時間太短；重新顯影2-3遍。
④重氮片曝光后放置時間較長；線路部分已曝光，廢棄重做。
（二）常見的故障排除方法：
在使用干膜進行圖像轉移時，由于干膜本身的缺陷或操作工藝不當，可能會出現各種質量 問題。下面列舉在生產過程中可能產生的故障，并分析原因，提出排除故障的方法。
1、干膜與覆銅箔板粘貼不牢
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原 因 |
解決辦法 |
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1)干膜儲存時間過久，抗蝕劑中溶劑揮發。 |
在低于27℃的環境中儲存干膜，儲存時間不宜超過有效期。 |
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2)覆銅箔板清潔處理不良，有氧化層或油污等污物或微觀表面粗糙度不夠。 |
重新按要求處理板面并檢查是否有均勻水膜形成。 |
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3)環境濕度太低。 |
保持環境濕度為60％RH左右。 |
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4)貼膜溫度過低或傳送速度太快。 |
調整好貼膜溫度和傳送速度，連續貼膜最好把板子預熱。 |
2、干膜與銅箔表面之間出現氣泡
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原 因 |
解決辦法 |
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1)貼膜溫度過高，抗蝕劑中的揮發成分急劇揮發，殘留在聚酯膜和覆銅箔板之間，形成鼓泡。 |
調整貼膜溫度至標準范圍內。 |
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2)熱壓輥表面不平有凹坑或劃傷。 |
注意保護熱壓輥表面的平整，清潔熱壓輥時不要用堅硬、鋒利的工具去刮。 |
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3)壓輥壓力太小。 |
適當增加兩壓輥問的壓力。 |
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4)板面不平有劃痕或凹坑。 |
挑選板材并注意前面工序減少造成劃 痕、凹坑的可能。 |
3、干膜起皺
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原 因 |
解決辦法 |
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1)兩個熱壓輥軸向不平行，使干膜受壓不均勻。 |
調整兩個熱壓輥，使之軸向平行。 |
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2)貼膜溫度太高。 |
調整貼膜溫度至正常范圍內。 |
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3)貼膜前板子太熱。 |
適當調低預熱溫度。 |
4、有余膠
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原 因 |
解決辦法 |
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1)干膜質量差，貼膜過程中出現偶然熱聚合。 |
換用質量好的干膜。 |
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2)干膜暴露在白光下造成部分聚合。 |
在黃光下進行干膜操作。 |
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3)曝光時間太長。 |
縮短曝光時間。 |
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4)照相底版暗區光密度不夠，造成紫外 光透過，部分聚合。 |
曝光前檢查照相底版，測量光密度。 |
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5)曝光時照相底版與基板接觸不良造成虛光。 |
檢查抽真空系統及曝光框架。 |
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6)顯影液溫度太低，顯影時間太短，噴淋壓力不夠或部分噴嘴堵塞。 |
調整顯影液溫度和顯影時的傳送速度，檢查顯影設備試顯影點確定參數。 |
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7)顯影液中產生大量氣泡，降低了噴淋壓力。 |
在顯影液中加入消泡劑消除泡沫。 |
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8)顯影液失效。 |
更換顯影液。 |
5、顯影后干膜圖像模糊，抗蝕劑發暗發毛
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原 因 |
解決辦法 |
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1)照相底版明區光密度太大，使紫外光受阻。 |
曝光前檢查照相底版，測量光密度。 |
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2)顯影液溫度過高或顯影時間太長。 |
調整顯影液脫落及顯影時的傳送速度 |
6、鍍層與基體結合不牢或圖像有缺陷
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原 因 |
解決辦法 |
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1)圖像上有修版液或污物。 |
修版時戴細紗手套，并注意不要使修版液污染線路圖像 |
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2)化學鍍銅前板面不清潔或粗化不夠。 |
加強化學鍍銅前板面的清潔處理和粗化 |
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3)鍍銅前板面粗化不夠或粗化后清洗不干凈 |
改進鍍銅前板面粗化和清洗 |
7、鍍銅或鍍錫鉛有滲鍍
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原 因 |
解決辦法 |
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1）干膜性能不良，超過有效期使用。 |
盡量在有效內便用干膜。 |
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2）基板清洗不干凈或粗化表面不良,干膜粘附不牢。 |
加強板面處理。 |
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3）曝光過頭抗蝕劑發脆。 |
用光密度尺校正曝光量或曝光時間。 |
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4）曝光不足或顯影過頭造成抗蝕劑發毛，過緣起翹。 |
校正曝光量，調整顯影溫度和顯影速度。 |