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宏誠光學
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超精密雙面拋光的加工原理
2022-11-01 10:07
超精密兩面拋光加工是化學機械拋光的應用(CMP)技術性,借助產品工件、碾磨顆粒物、拋光劑和拋光輪的機械作用,在工件打磨拋光環節中,發生部分持續高溫和髙壓,使產品與碾磨顆粒物、拋光劑和拋光輪中間最直接的化學物理轉變,造成工件表面的化學物理轉變。因為機械設備和化學變化的重合,工件表面的生成物逐漸被碾磨,從而使得工件表面光潔。兩面噴砂工藝要在單層噴砂工藝的前提下發
拋光
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